艺微胜 HPT-L7高精密烤胶机面向半导体、微纳制造、光电等领域的研发与中试需求，采用阳极氧化铝加热面板，具备出色的耐腐蚀性与热均匀性。集成多段控温、触控操作、无接触式热处理等功能，支持对多规格晶圆的...

艺微胜 PCS-8LA 是一款专为科研与微纳制造场景打造的等离子处理机，适用于材料表面清洗、活化及改性等多类应用。设备采用 13.56MHz 射频等离子体源，结合不锈钢反应腔、质量流量控制与自动/手动...

DEV-6LS 桌上型半自动显影机专为半导体、光电及精密制造领域设计，提供高精度、高可靠性的样品处理解决方案。其核心特点包括精准的转速控制、PLC智能控制系统以及高效的药液喷洒与清洗功能，能够满足对微...

分光荧光仪专为电化学样品荧光研究设计，适用于固态和液态样品的激发和发射光谱测量。搭载氙灯光源与双单色仪，精确控制入射光强度和荧光发射。系统支持总荧光强度测量，光谱范围可扩展至1800nm，广泛应用于电...

完整型开尔文探针系统突破150年瓶颈，解决接触电位差（CPD）来源模糊问题，精准分离样品与探针电位。金网探针、法拉第笼助力高精度表面分析，重塑材料研究标准。

开尔文探针系统 Kelvin Probe，研究样品的电表面状态，专用于测量半导体样品表面的电子功函数。 电化学开尔文探针系统专为直接测量与电解质接触的电化学样品设计，无需干燥样品表面，配备专用样品池，...

开尔文探针系统 Kelvin Probe，研究样品的电表面状态，专用于测量半导体样品表面的电子功函数。扫描开尔文探针系统可测量单点接触电位差（CPD）并扫描整个样品表面，分析表面状态，评估表面缺陷和表...

开尔文探针系统 Kelvin Probe，研究样品的电表面状态，专用于测量半导体样品表面的电子功函数。单点开尔文探系统，用于研究功函数，能够精准测量样品表面特定位置的接触电位差（CPD）。

Mision 1100 扫描电化学显微镜，集成高精度压电马达定位平台与回转式扫描结构，兼具高分辨率与宽量程移动能力。系统支持SECM、AC-SECM、SIET等多种探针模块，并可与荧光显微镜、QCM等...

Nova HT1000 膜电极热压机是一款专为燃料电池CCM热压重整工艺打造的高精度设备，采用PLC可编程控制系统与彩色触控式人机界面，操作直观，系统稳定。该设备结构紧凑，占地少，可适用于实验室与中试...