技术文章
Technical articles导读固-固界面致密化是全固态电池性能提升与规模化量产的核心瓶颈。不同于液态电池的浸润接触，固态电池中电极与电解质均为刚性固体，层间极易存在空隙，导致接触不良。本期内容深入解析等静压技术（IsostaticPressing）。作为一种能改善这一瓶颈的关键工艺，它通过施加各向均匀的压力，实现材料的密化，是降低界面阻抗、延长循环寿命的必由之路。1.核心特征：帕斯卡定律与均质压力图1等静压示意图https://doi.org/10.1038/s41560-020-0575-z技术原理...
导读在固态电池体系中，离子迁移过程通常需要跨越多个界面结构，例如锂金属/电解质界面、电解质颗粒之间的晶界以及潜在的孔隙区域（如图1）图1固态界面示意https://dx.doi.org/10.1021/acs.chemrev.0c00101这些界面的结构状态和接触质量会在一定程度上影响离子传输行为，其变化通常可以通过离子电导率的测试结果体现出来，例如界面接触不充分或界面反应加剧时，电导率可能出现降低趋势。因此，离子电导率测试在固态电解质性能评估以及界面问题分析中具有重要参考意...
艺微胜科技SCP-4LD桌上型旋转涂布机面向高标准实验室及受控气氛环境应用，特别适用于手套箱中需要精确涂胶的场景。设备重点解决的是小空间部署困难、环境洁净要求高、以及薄膜工艺重复性不足等问题。这款设备采用分体式结构，主机与控制系统分开布置，使其能在手套箱内更容易安装、维护和操作。对于依赖惰性气氛的实验来说，减少布线复杂度和外界干扰对提高工艺稳定性意义很大。内腔使用CNC一体加工的PP材料，耐腐蚀，表面易清洁，配合凹槽式防溅结构，可以把旋涂时产生的溶剂飞散和溢胶控制在限定区域内...
在半导体和微纳加工等高精度制造流程中，基片表面的洁净度与活性直接影响后续制程的稳定性。传统湿法或常规等离子处理在追求洁净效果时，往往会带来热应力或离子轰击等潜在风险。艺微胜PCS-8LA的设计目标正是提供一种更温和、更可控的干法表面处理方式，让敏感材料在不受损伤的前提下获得可靠的洁净效果。艺微胜PCS-8LA采用的等离子体控制技术能够有效降低高能离子对基片造成的物理和热影响，使处理过程更适合薄膜器件、敏感层结构以及不耐高温的材料。这种方式在材料保护上具有明显优势，可降低制程中...
艺微胜科技HPT-L7高精密烤胶机：光刻制程中的程控高精度热管理解决方案在半导体和微电子制造中，光刻胶的热处理（烤胶）环节对最终的产品质量和良率具有决定性影响。温度的微小偏差可能导致光刻胶膜厚不均、附着力变化，最终影响关键尺寸（CD）的精确度。艺微胜科技HPT-L7高精密烤胶机，是一款专为解决这些挑战而设计的程控精密加热平台自动化烘烤解决方案。HPT-L7的可调顶针设计（高度范围0~30mm）实现基片与加热面板的零接触烘烤。这对敏感基片处理尤为关键，避免传统方式带来的颗粒污染...
艺微胜DEV-6LS桌上型半自动显影机：面向精密光刻工艺的稳定显影平台在光刻制程中，显影质量决定了图形线宽、边缘形貌以及最终良率。艺微胜科技DEV-6LS桌上型半自动显影机专注于提供稳定、均匀的显影处理，并确保显影后的清洗干净，是实验室与洁净室环境中常用的精密显影工具。设备的核心能力来自对运动与液流的精细化控制。DEV-6LS采用交流伺服电机配合PLC程控分配摇臂，使显影液和清洗液在基片表面分布均匀，可有效减少局部显影过度或不足带来的工艺偏差。对于线宽敏感、对显影窗口一致性要...
全柜式旋转涂布机——光刻胶工艺的集成洁净解决方案艺微胜科技的SCP-8C全柜式旋转涂布机是一款针对8英寸及以下晶圆光刻胶旋涂工艺而开发的高集成度设备。它专注于优化涂层的厚度一致性以及对工艺过程中颗粒污染的严格控制。这款设备通过将涂胶、边缘清洗（EBR）和背面清洗（BSR）等关键步骤整合于一个封闭的全柜式结构中，实现了整个旋涂流程在一个高度受控的环境下连续、高效地完成。这种系统集成，有效减少了晶圆在不同处理环节间转移所带来的污染和划伤风险，从而确保了制程的高度连续性和可控性。为...
艺微胜科技全柜式涂胶加热显影一体化系统艺微胜科技CDS-6C全柜式涂胶显影系统是一款专为高校研究所和实验室设计的高度集成设备。该系统的核心逻辑是将光刻制程中的三大关键环节——匀胶、烤胶、显影——整合于一个紧凑的柜式框架内，旨在以最小的占地面积和性价比，提供一个完整的、功能专业的研发操作平台。该系统采用坚固的框架结构，外表材质可选不锈钢或PP，以实现无尘且不吸附颗粒的特性。为保障光刻操作所需的受控环境，设备集成了FFU过滤单元、上排风接口和黄色灯光腔体。所有功能模块均可独立工作...
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