全柜式旋转涂布机——光刻胶工艺的集成洁净解决方案

全柜式旋转涂布机——光刻胶工艺的集成洁净解决方案

艺微胜科技的 SCP-8C 全柜式旋转涂布机是一款针对8英寸及以下晶圆光刻胶旋涂工艺而开发的高集成度设备。它专注于优化涂层的厚度一致性以及对工艺过程中颗粒污染的严格控制。这款设备通过将涂胶、边缘清洗（EBR）和背面清洗（BSR）等关键步骤整合于一个封闭的全柜式结构中，实现了整个旋涂流程在一个高度受控的环境下连续、高效地完成。这种系统集成，有效减少了晶圆在不同处理环节间转移所带来的污染和划伤风险，从而确保了制程的高度连续性和可控性。

为了满足光刻工艺对洁净度的高要求，SCP-8C在污染控制方面做了完整设计。设备内置FFU气流过滤系统，提供稳定的垂直洁净气流；供胶部分采用光刻胶过滤和 PTFE 材料的供液通道，减少杂质产生；盆罩结构也更利于保持腔体洁净。这些设计的意义，是让吐胶过程更稳定，不出现气泡、颗粒等影响成膜质量的因素，从而降低缺陷率，提高实验和量产工艺的可重复性。

在工艺功能上，SCP-8C 将实际生产中常用的处理步骤都集成在了设备内部。EBR（边缘光阻去除）模块可以有效清理晶圆边缘的残胶，改善后续对准和涂层均匀性；BSR（背面光阻去除）模块则确保晶圆背面洁净，避免后段卡盘吸附不稳的问题。所有喷胶和清洗动作都由 PLC 控制，位置和速度保持一致，使工艺更加可控，减少操作者差异带来的波动。

旋涂部分采用伺服电机驱动，转速响应快、稳定性好，有利于获得更均匀的光刻胶涂层。配方管理功能支持多组工艺参数保存，工程人员可以方便地执行、复现和调整工艺流程。系统还设置了真空监控和渗液防护，提高了设备在长期运行中的稳定性和安全性。

艺微胜科技SCP-8C全柜式旋转涂布机致力于在保证高洁净度的前提下，为用户提供一个能长期依赖的高效旋涂平台。其高度集成的功能和严格的污染控制，使其成为半导体、光电和先进材料等对旋涂质量有严格要求的应用场景中的可靠工具。