艺微胜DEV-6LS桌上型半自动显影机：面向精密光刻工艺的稳定显影平台

艺微胜DEV-6LS桌上型半自动显影机：面向精密光刻工艺的稳定显影平台

在光刻制程中，显影质量决定了图形线宽、边缘形貌以及最终良率。艺微胜科技 DEV-6LS 桌上型半自动显影机专注于提供稳定、均匀的显影处理，并确保显影后的清洗干净，是实验室与洁净室环境中常用的精密显影工具。

设备的核心能力来自对运动与液流的精细化控制。DEV-6LS 采用交流伺服电机配合 PLC 程控分配摇臂，使显影液和清洗液在基片表面分布均匀，可有效减少局部显影过度或不足带来的工艺偏差。对于线宽敏感、对显影窗口一致性要求较高的图形，这种稳定性能够显著提升重现性。

清洗环节是这款设备的另一项重点。显影液喷嘴与 DIW（去离子水）喷嘴采用独立配置，显影完成后可及时进行充分冲洗，减少光刻胶残留对后续烘烤、薄膜沉积等步骤的影响。对于高洁净度制程，这种清洗分级设计能有效降低潜在缺陷源。

在操作与控制方面，DEV-6LS 提供直观的触摸屏界面，支持自动与手动两种模式，可存储多组配方并进行分步管理，方便工程师进行参数优化或重复实验。通过减少手动干预，设备能持续提供可复现的显影结果。

结构设计面向洁净室应用。机身采用不锈钢外壳，承盘使用耐腐蚀的 PTFE 材料，便于日常维护与腔体清洁。关键电气元件置于独立隔离区，配合真空下限保护、真空渗液保护与运行结束提醒，进一步提高长期运行的安全性和可靠性。

DEV-6LS 适用于 6 英寸及以下晶圆的显影清洗流程，是半导体、微电子、光电材料等领域进行光刻工艺验证、工艺优化与日常制程开发时的稳健显影平台。