分光荧光仪专为电化学样品荧光研究设计，适用于固态和液态样品的激发和发射光谱测量。搭载氙灯光源与双单色仪，精确控制入射光强度和荧光发射。系统支持总荧光强度测量，光谱范围可扩展至1800nm，广泛应用于电化学、材料表征及发光研究。通过FotoGUI软件操作，自动化控制，简化实验流程，确保高效精确的测量结果

完整型开尔文探针系统突破150年瓶颈，解决接触电位差（CPD）来源模糊问题，精准分离样品与探针电位。金网探针、法拉第笼助力高精度表面分析，重塑材料研究标准。

开尔文探针系统 Kelvin Probe，研究样品的电表面状态，专用于测量半导体样品表面的电子功函数。 电化学开尔文探针系统专为直接测量与电解质接触的电化学样品设计，无需干燥样品表面，配备专用样品池，确保精准测量功函数，广泛应用于电池、光电材料和催化剂研究。

开尔文探针系统 Kelvin Probe，研究样品的电表面状态，专用于测量半导体样品表面的电子功函数。扫描开尔文探针系统可测量单点接触电位差（CPD）并扫描整个样品表面，分析表面状态，评估表面缺陷和表面态密度等电学特性。

开尔文探针系统 Kelvin Probe，研究样品的电表面状态，专用于测量半导体样品表面的电子功函数。单点开尔文探系统，用于研究功函数，能够精准测量样品表面特定位置的接触电位差（CPD）。